【内容】
《真空科学技术丛书：真空镀膜》是本着突出近代真空镀膜技术进步，注重系统性、强调实用性而编著的。全书共11章，内容包涵了真空镀膜中物理基础，各种蒸发源与溅射靶的设计、特点、使用要求，各种真空镀膜方法以及薄膜的测量与监控，真空镀膜工艺对环境的要求等。本书具有 性、实用性和通用性。
《真空科学技术丛书：真空镀膜》可作为从事真空镀膜技术的技术人员、真空专业的本科生、研究生教材使用，亦可供镀膜、表面改型等专业和真空行业技术人员参考。
《真空科学技术丛书：真空镀膜》可作为从事真空镀膜技术的技术人员、真空专业的本科生、研究生教材使用，亦可供镀膜、表面改型等专业和真空行业技术人员参考。
【目录】
第1章 真空镀膜概论
第2章 真空镀膜技术基础
第3章 蒸发源与溅射靶
第4章 真空蒸发镀膜
第5章 真空溅射镀膜
第6章 真空离子镀膜
第7章 离子束沉积与离子束辅助沉积
第8章 化学气相沉积
第9章 薄膜的测量与监控
0章 薄膜性能分析
1章 真空镀膜技术中的清洁处理
参考文献
第2章 真空镀膜技术基础
第3章 蒸发源与溅射靶
第4章 真空蒸发镀膜
第5章 真空溅射镀膜
第6章 真空离子镀膜
第7章 离子束沉积与离子束辅助沉积
第8章 化学气相沉积
第9章 薄膜的测量与监控
0章 薄膜性能分析
1章 真空镀膜技术中的清洁处理
参考文献
